洗浄・乾燥
自動洗浄装置
【主な種類】
治具洗浄装置（酸/有機溶剤対応）/レジスト剥離装置(酸/有機溶剤/モノエタノールアミン系溶剤対応）/リフトオフ洗浄装置/エッチング装置/現像装置/超音波洗浄装置など
レジスト剥離は、安心・安価・燃えない、モノエタノールアミン系溶剤をおススメしています！詳しくはこちらをどうぞ。
【動作仕様】
有機系剥離液によりレジスト除去→リンス→純水洗浄→スピン乾燥までの自動処理装置。
材質：SUS、PVC、PPにて製作可能
温調制御、自動薬液調合、ｐH調整機能、その他
マスク洗浄装置
【特徴】
各種マスクを自動搬送システムにて洗浄基盤１枚からカセット単位で手動・自動処理可能。
（1）熱硫酸槽：８０℃で温度調節された処理槽にてDIP処理
（2）DIP水洗槽１：オーバーフロー方式による水洗槽で1次洗浄
（3）DIP水洗槽２：オーバーフロー方式による水洗槽で最終洗浄
（4）スピン乾燥：処理を終えたホルダー、又はカセットごとにスピン乾燥
石英管/ベルジャー洗浄装置～保管庫
用途、サイズなど、ご要望に応じて製作致します。お気軽にお問い合わせ下さいませ。
MEMS剥離装置
【動作仕様】
・ローダー、アン ローダー共Ｗカセット仕様 ・マスク、ウエハ対応可能、２液塗布可能
・ベーク炉内に残ったワークの自動回収機構 ・直動サーボモーターによる高速スピン
・スピンエッチャー
リフトドライ（温水引き上げ乾燥装置）
【特徴】
使用液：フッ酸・硝酸・過水等の溶液。 縦型洗浄装置も製作可能（ベルジャー等）自動薬液供給システムの取付も可能です。
【洗浄対象物】
・石英炉芯管 Φ130～Φ450 各種対応
・その他石英部品、石英治具
乾燥製品
【特徴】
スライドで蓋が開閉するコンパクト設計なので、上部に大きなスペースを必要としません。めっき用ホルダー乾燥機としても納入実績があります。
【主な用途】
半導体ウエハや基盤等 の乾燥にご利用いただけます。
高圧部分洗浄機
【特徴】
汚れたカップをスピーディに安全に洗浄できる装置です！環境に対する配慮や、使い易さを追求した、便利な自社開発製品です。
炭酸エチレンを使った洗浄で、環境にも、作業員にとっても安全です
【特徴】
メカチャック、または真空チャック。
回転数：～3,000rpm
基板の大きさに合わせて製作が可能です。
【主な用途】
セラミック基板・ガラス基板他。
【特徴】
透明なPVCの洗浄室に洗浄物をセットし、ノズルを位置決め・固定。洗浄物を左右に揺動することで速やかに洗浄が行えます。
【用途例】
ハンディタイプの洗浄機をお使いの方へ、スイッチ一つでタイマー洗浄できるこちらの装置をお勧めします。密閉構造なので、室内でもお使い頂けます。
スピンドライヤー
PIQ塗布装置/スピンコーター
枚葉処理装置
基板用スピン乾燥機
【特徴】
表面張力と高熱で速乾させる方法で、壊れやすいワークや、溝の深いパターン・コンタクトホールなどもクリーンに、確実に乾燥できます！
アセトンやイソプロピルアルコールなどの薬品を使って洗浄・乾燥させているものから切り替えませんか？リフトドライなら、薬液、動力不要で安心・安全、パーティクルも出ません。
【特徴】
偏芯チャック機構（特許技術）で ①低コストでの制作が可能
②裏面の洗浄が容易に行えます。
１枚からの処理が可能な簡易型です
【作動】
枚葉スプレーエッチング→２流体洗浄→乾燥
