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リフトドライ
(温水引き上げ乾燥装置)

リフトドライ(温水引き上げ乾燥装置)

クリーンな乾燥にお悩みの方に「温水引き上げ乾燥」の提案です。
一台でいろいろなサイズ、多品種の乾燥が簡単に行えます。

リフトドライ

【特徴】

・ワークをリフターに置き、スタートと共に下降し、低速で引き上げるだけの非常に簡単な動作で乾燥を行います。
・蒸気層の中を低速で引き上げ、表面張力と高熱で即乾させる方法で溝の深いパターンや、コンタクトホールなどの乾燥が容易に行えます。
・水面上に形成した蒸気層より湯気の発生が無い為、再付着によるウォーターマークを防ぎます。
・外力がかからない為、破損し易いワ-クの乾燥が可能です。
・リフターの加工次第で、一台で他品種のワークに対応可能です。
・アセトンやIPAなどの薬液を使用しない為、保守管理が簡単で安全性が高く、環境にやさしい乾燥方法です。

【動作仕様】

・ワークを昇降リフターに載せてスタートすると下降をはじめ、温純水 槽内に浸漬してワークを昇温します。
・設定した時間により、タイムUPで上昇を始めます。
・水面上の蒸気層の中を低速上昇し、乾燥終了します。
※昇降速度、各動作のタイマー、温純水や蒸気層温度等の設定が可能です。



オリエントの自社開発乾燥装置リフトドライ

半導体製造のあらゆる工程で必要となる洗浄後の乾燥。

生産や研究の場で重要な工程であり、その方法が多岐にわたることは、長い間悩みながら必要に応じて開発を重ねてきた結果と言えます。

主な方法として、スピン乾燥や熱風乾燥、エアーナイフ、IPAベーパ、マランゴニ、真空乾燥など、それぞれ用途に合ったより良い方法が開発されてきましたが、このリフトドライは高度な技術や微妙な調整を必要とせず、各温度管理のみで乾燥速度をコントロールし、ワークのサイズや形状についての対応が容易です。

また、装置単体の製作はもちろん、既存設備への組込みなど、フレキシブルに検討することが可能です。

詳細は、製品資料(PDF)をご覧ください。

【用途例】

アセトンやイソプロピルアルコールなどの薬品を使って洗浄・乾燥させているものをリフトドライに切り換えませんか?
リフトドライは、薬液・動力不要で安心・安全。ゴミも出ません。
きれいに乾燥させたいものすべてにご利用ください。(耐熱150℃までのワーク)

半導体ウエハ、シリコンウエハ、ガラスディスク、アルミディスク、マスク、角型基板、水晶基板、ガラス基板、セラミック基板…
その他、割れやすいもの、クリーンな乾燥を必要とするワーク、パッキング前の製品など、あらゆるワーク・製品にご利用いただけます。

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将来性を考えた製品づくりを通じて時代を築き、信頼を築くこと。
これこそプロフェッショナルなスペシャリストとしての私たち、オリエント技研の道であると信じています。
お客さまからの受託により、洗浄装置、CR設備、乾燥装置、枚葉装置、実験装置、その他装置を開発製造しております。
また、自社製品の開発にも積極的に取り組んでおります。

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