色々な洗浄の方法
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ウェット洗浄
水を媒体とするので取り扱いがしやすく、洗浄方法として最も歴史が長い、主流の方法である。ウェット洗浄で使用される過酸化水素水をベースとした薬液は洗浄対象によって使い分けられ、主に洗浄液を張った処理槽に基板を沈めて全体を処理する、浸漬式が用いられる。洗浄に使用される薬液は、過酸化水素水をベースとしたもので、洗浄対象によって、使い分けられる。一般的に、洗浄液を貼った処理槽に基板を沈めての、浸漬式で処理が行われる。効果を上げる為に、メガソニックなどの超音波振動、ブラシやスクラブなどの外力を足す場合もあるが、基板表面の構造は大変微細であるため、ダメージを与えないよう注意が必要である。枚葉式はウエハに薬液を吹きかけて洗い流す方法である。
其々メリット、デメリットが存在するが、枚葉式とバッチ式、どの様式も、仕上げとしてリンスと乾燥が必須になる。
バッチ式
25枚1バッチのウエハを、順番に並んだ薬液層と純水槽に連続的に浸漬させて洗浄していく方法。一度に大量に洗浄する事ができるが、同じ薬液を複数回使用する為、パーティクルが槽内に蓄積していくというデメリットがある。ワンバス式
ウエハを回転させながら薬液をスプレーして、洗い流す方法。ワンバス式と同様、洗い流すことで洗浄効果は上げられるが、薬液の使用量がやはり多くなる。対策として、オゾン水と希フッ酸を交互にスプレーする方法なども一部で用いられている。枚葉式
ウエハを回転させながら薬液をスプレーして、洗い流す方法。ワンバス式と同様、洗い流すことで洗浄効果は上げられるが、薬液の使用量がやはり多くなる。対策として、オゾン水と希フッ酸を交互にスプレーする方法なども一部で用いられている。
ドライ洗浄
薬液の代わりにガスを使用して行うドライな洗浄の方法もある。ドライな方法は、薬液の表面張力による微細な構造へのダメージを心配しなくて良いという利点と、薬液や純水の使用量を少なく抑えられるという利点がある。ガスとして反応させて汚染物質を除去するドライな方法は、作用する分子数が希薄になり反動が劣る事が多く、それを補う為に温度を上げるなど、対策を要する。
まとめ
オリエントの洗浄装置は・・・
薬液を使ったバッチ式洗浄・ウェット洗浄を得意としており、薬液選定も含め、お客様のご相談を受けて、最適なプロセスをご提案致します。
シリコン、ガラス、セラミックなどの小ワークから、大口径ウエハまで、様々なワークへ対応し、小型実験機から大型量産装置まで幅広く制作しております。
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洗浄と乾燥の主な課題
洗浄と乾燥の主な課題
常に改善と進化を求められている洗浄・乾燥の技術。
それは、パーティクル発生などの、長年の試行錯誤の対象である基本的課題に加えて半導体デバイスの進歩や時代の変化に伴って生じる新しい課題への対応が常に求められるからであるといえます。
色々な乾燥方法
色々な乾燥方法
洗浄後のクリーンな状態の半導体に施す乾燥は表面に水分を残留させない事や
パーティクル(ゴミ)・金属・有機物などがウエハに付着しない事
さらに、ウォーターマークを残さない事が大事な要素になってきます。
多岐にわたる乾燥方法の概要と、其々の長所、短所を挙げて比較しています。
オリエントの洗浄・乾燥装置紹介
装置紹介
既成概念にとらわれる事なく、常に新しい発想を取り入れた開発を目指してきたオリエントの、洗浄・乾燥洗浄装置です。
洗浄装置は、シリコン/ガラス/セラミック等の小ワークから、大口径ウエハまで様々なワークへ対応し、小型実験機から大型量産装置まで製作しております。 乾燥装置も用途/目的に合わせてお選びいただけます。
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将来性を考えた製品づくりを通じて時代を築き、信頼を築くこと。
これこそプロフェッショナルなスペシャリストとしての私たち、オリエント技研の道であると信じています。
お客さまからの受託により、洗浄装置、CR設備、乾燥装置、枚葉装置、実験装置、その他装置を開発製造しております。
また、自社製品の開発にも積極的に取り組んでおります。